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                                                                          分子束外延束源爐

                                                                          • 高溫束源爐-HTEZ
                                                                          高溫束源爐-HTEZ

                                                                          高溫束源爐-HTEZ

                                                                          • 產品型號:HTEZ
                                                                          • 產品描述:高溫束源爐-HTEZ可加熱至1900℃。HTEZ的加熱效率高,溫度測量控制重復性好,并且可以精確調節。鉭燈絲的優化設計確保了加熱穩定性,即使在極限溫度下也可以具有很長的使用壽命。
                                                                          • 在線訂購

                                                                          高溫束源爐-HTEZ用于低蒸汽壓的元素和化合物材料薄膜沉積,例如Fe,Cr,Ni,Co,Au,Ge等材料,以及表面科學分析和磁性或氧化物薄膜沉積。


                                                                          產品特點:

                                                                          安裝法蘭:DN40CF / DN63CF

                                                                          真空內長度:220~400 mm

                                                                          加熱燈絲類型:鉭絲加熱

                                                                          熱偶:W5%Re / W26%Re( C)

                                                                          加熱溫度:最高1900(根據所選坩堝材料)

                                                                          除氣溫度:最高1900(根據所選坩堝材料)

                                                                          外部烘烤溫度:250

                                                                          冷卻方式:集成水冷 / 獨立冷屏

                                                                          坩堝容量:1.5 / 10 / 35 cc

                                                                          坩堝材料:Al2O3,BeO,Ta,W(根據要求其他材料)

                                                                          選配:擋板


                                                                          如有設備需求或技術咨詢歡迎隨時聯系我們。


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